DESCRIÇÃO
O sistema CVD de forno de tubo de vácuo/atmosfera de 1600°C (CVD-TF) fornece um ambiente experimental com vácuo, atmosfera controlável e alta temperatura, e é usado em semicondutores, nanotecnologia, fibra e outros campos. Este sistema de crescimento CVD é adequado para o processo CVD, como revestimento de carboneto de silício, teste de condutividade de substrato cerâmico, crescimento controlável de nanoestrutura de ZnO, sinterização de atmosfera de capacitor cerâmico (MLCC) e outros experimentos.