DESCRIÇÃO
Forneça um ambiente experimental com vácuo, atmosfera controlável e alta temperatura, usado em semicondutores, nanotecnologia, fibra de carbono e outros campos.
Este sistema de crescimento CVD é adequado para processos CVD, como revestimento de carboneto de silício, teste de condutividade de substrato cerâmico, crescimento controlado de nanoestruturas de ZnO e experimentos de sinterização em atmosfera MLCC.